Московский государственный университет печати

Под редакцией В.И. Шеберстова


         

Технология изготовления печатных форм

Учебник


Под редакцией В.И. Шеберстова
Технология изготовления печатных форм
Начало
Печатный оригинал
Об электронном издании
Оглавление
1.

ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ КОПИРОВАЛЬНОГО ПРОЦЕССА

1.1.

Общие сведения о копировальном процессе и копировальных слоях

1.2.

Диазосоединения. Диазосмолы

1.3.

Копировальные слои на основе о-нафтохинондиазидов

1.4.

Фотополимеризация. Копировальные слои на основе фотополимеризующихся композиций

1.5.

Определение сенситометрических характеристик копировальных слоев

2.

ФОРМЫ ОФСЕТНОЙ ПЛОСКОЙ ПЕЧАТИ

2.1.

Общие сведения

2.2.

Физико-химические закономерности смачивания пробельных и печатающих элементов форм плоской печати

2.3.

Параметры смачивания твердых поверхностей в офсетной плоской печати

2.4.

Формные основы

2.5.

Пластины для изготовления монометаллических печатных форм

2.5.1.

Подготовка поверхности алюминиевых пластин

2.5.2.

Подготовка поверхности пластин углеродистой стали

2.5.3.

Формные основы для изготовления монометаллических предварительно очувствленных пластин

2.6.

Изготовление копий

2.7.

Получение печатных форм - создание гидрофобных печатающих и гидрофильных пробельных элементов

2.7.1.

Монометаллические печатные формы

2.8.

Нанесение защитного покрытия - консервация печатной формы

2.9.

Формы для офсетной печати без увлажнения

2.10.

Изготовление офсетных печатных форм путем проекционного экспонирования

3.

Формы высокой печати

3.1.

Общие сведения о получении фотополимерных печатных форм

3.2.

Фотополимеризующиеся материалы

3.3.

Формирование печатающих элементов в фотополимеризующихся слоях

4.

Формы глубокой печати

4.1.

Подготовка формного цилиндра

5.

Получение печатных форм электронным гравированием и с помощью лазерного излучения

5.1.

Электронное гравирование форм глубокой печати

5.2.

Лазеры в полиграфии. Способы формирования изображения на формных материалах лазерным излучением

Указатели
48   указатель иллюстраций
Рис. 2.1. Cхема работы негативного (а) и похитивного (б) копировальных слоев на примере получения формы высокой печати Рис. 2.1. Cхема работы негативного (а) и похитивного (б) копировальных слоев на примере получения формы высокой печати (2.19) Рис. 2.4. Cпектральные кривые поглощения позитивного копировального слоя и его составных частей: 1 - копировальный слой; 2 - новолачная смола; 3 - о-нафтохинондиазид Схема 2.25 Схема 2.26 (2.29) (2.34) Схема 2.28 Характеристические кривые негативного 1 и позитивного 2 копировальных слоев Определение фотографической широты копировального слоя Зависимость разрешающей способности R копировального слоя от его толщины h Распределение освещенностей E среди группы штрихов и около одиночного штриха Cпектральные кривые поглощения позитивного копировального слоя и его составных частей: 1 - копировальный слой; 2 - новолачная смола; 3 - о-нафтохинондиазид Рис. 3.1. Принципиальная схема изготовления монометаллической и полиметаллической печатных форм плоской печати: 1 - формная основа (металлическая пластина толщиной 0,3-0,5 мм); 1' - слой меди (гальванопокрытие, 6-20 мкм); 1'' - слой хрома (гальванопокрытие, 0,8-1,2 мкм); 2 - копировальный слой (2-3 мкм). Пробельный элемент - гидрофильная пленка (1-2 мкм); печатающий элемент - гидрофобная пленка (2-3 мкм) Рис. 3.1. Принципиальная схема изготовления монометаллической и полиметаллической печатных форм плоской печати: 1 - формная основа (металлическая пластина толщиной 0,3-0,5 мм); 2 - копировальный слой (2-3 мкм). Пробельный элемент - гидрофильная пленка (1-2 мкм); печатающий элемент - гидрофобная пленка (2-3 мкм) Рис. 3.1. Принципиальная схема изготовления монометаллической и полиметаллической печатных форм плоской печати: 1 - формная основа (металлическая пластина толщиной 0,3-0,5 мм); 2 - копировальный слой (2-3 мкм). Пробельный элемент - гидрофильная пленка (1-2 мкм); печатающий элемент - гидрофобная пленка (2-3 мкм) Рис. 3.2. Капля жидкости на поверхности твердого тела Рис. 3.3. Схема поверхности алюминиевой пластины после электрохимической подготовки (по Эйлеру, ВНР): 1 - геометрическая поверхность; 2 - уровень прокатного рельефа; 3 - уровень после обезжиривания; 4 - уровень чашек после зернения; 5 - уровень оксидных пор Рис. 3.4. Кинетика изменения емкости двойного электрического слоя стального электрода при обработке его растворами: 1 - нитрита натрия; 2 - фосфата натрия двухзамещенного; 3 - силиката натрия; 4 - ферроцианида калия; 5 - силиката натрия при 50°С; 6 - исходная поверхность Рис. 3.10. Кривые поглощения слоя ОНХД при экспонировании УФ-излучением: кривая 1 - в течение 0 с; 2 - 15 с; 3 - 30 с; 4 - 60 с; 5 - 120 с Рис. 3.10. Кривые поглощения слоя ОНХД при экспонировании УФ-излучением: кривая 1 - в течение 0 с; 2 - 15 с; 3 - 30 с; 4 - 60 с; 5 - 120 с Рис. 3.11. Влияние температуры термообработки на химические и физические свойства слоя на углеродистой стали. Обозначения кривых: 1 - химическая стойкость к органическому растворителю; 2 - то же, к 10-процентному раствору едкого натра; 3 - износостойкость; 4 - адгезия к поверхности стали Рис. 3.11. Влияние температуры термообработки на химические и физические свойства слоя на углеродистой стали. Обозначения кривых: 1 - химическая стойкость к органическому растворителю; 2 - то же, к 10-процентному раствору едкого натра; 3 - износостойкость; 4 - адгезия к поверхности стали Рис. 4.10. Схема получения ФПФ из твердой фотополимеризующейся композиции: а - фотополимеризующаяся пластина (ФПП); б - схема действия УФ-излучения на ФПП; в - готовая печатная форма (ФПФ); 1 - металлическая или пластмассовая подложка ФПП; 2 - адгезионный слой; 3 - слой твердой (воздушно-сухой) фотополимеризующейся композиции; 4 - фотоформа (негатив) Рис. 4.11. Схема получения ФПФ из жидкой фотополимеризующейся композиции (ЖПФК):а - схема экспонирования ЖПФК; б - готовая печатная форма Рис. 4.12. Строение фотополимезирующихся пластин для изготовления печатных форм высокой и офсетной печати: 1 - защитный слой; 2 - фотополимеризуэщийся слой; 3 - промежуточный слой; 4 - адгезионный слой; 5 - противоореольный слой; 6 - металлическая подложка Рис. 4.13. Кривые зависимости выхода гельфракции от продолжительности экспонирования в условиях газового кондиционирования (сплошные линии) и фотокондиционирования (пунктир): 1 - кондиционирование 1 ч в кислороде; 2 - 1ч в азоте; 3 - 6ч в углекислом газе; 4 - фотокондиционирование 255с при освещенности 50; 5 - без кондиционирования Рис. 4.14. Фотоактиничность ЖФПК: а - спектральное распределение освещенности источников излучения; б - спектр прорускания силикатного стекоа толщиной 10 мм; в - спектральная чувствительность ЖФПК; г - фотоактиничность ЖПФК на основе МДФ-2; д - то же, на основе ОКМ-2; 1 - лампы ЛУФ-80; 2 - лампы ЛЭР-30 Рис. 4.15. Изолинии фотоотверждения слоев различной толщины из ЖФПК до (1,2,3) и после (1',2',3') пропускания углекислого газа: толщина слоев: 1,1' - 0,2 мм; 2,2' - 0,6 ммм; 3,3' - 0,9 мм Рис. 4.16. Формирование профиля печатающих элементов ФПФ: а - схема расчета профиля (А-А - светящаяся поверхность, В-В - поверхность ФПК, С-С - фотоформа); б - расчетные изоэнергетические кривые формирования профиля печатающих элементов; в - экспериментальныые профили печатающих элементов ФПФ из ФПФ Целлофот (экспозиции: 1- недостаточная, 2 - оптимальная, 3 - избыточная) Рис. 4.16. Формирование профиля печатающих элементов ФПФ: а - схема расчета профиля (А-А - светящаяся поверхность, В-В - поверхность ФПК, С-С - фотоформа); б - расчетные изоэнергетические кривые формирования профиля печатающих элементов; в - экспериментальныые профили печатающих элементов ФПФ из ФПФ Целлофот (экспозиции: 1- недостаточная, 2 - оптимальная, 3 - избыточная) Рис. 4.16. Формирование профиля печатающих элементов ФПФ: а - схема расчета профиля (А-А - светящаяся поверхность, В-В - поверхность ФПК, С-С - фотоформа); б - расчетные изоэнергетические кривые формирования профиля печатающих элементов; в - экспериментальныые профили печатающих элементов ФПФ из ФПФ Целлофот (экспозиции: 1- недостаточная, 2 - оптимальная, 3 - избыточная) Рис. 4.17. Влияние продолжительности экспонирования на качество ФПФ Рис. 5.3. Слои формного цилиндра глубокой печати: 1 - сталь; 2 - никель; 3 - основной слой меди (1,5-3 мм); 4 - разделительный слой (1 мм); 5 - тиражная рубашка (0,1 мм) Рис. 5.3. Слои формного цилиндра глубокой печати: 1 - сталь; 2 - никель; 3 - основной слой меди (1,5-3 мм); 4 - разделительный слой (1 мм); 5 - тиражная рубашка (0,1 мм) Рис. 6.10. а Гравировальная установка для изготовления форм глубокой печати Рис. 6.10. б Гравировальная система Гелиоклишограф К-201 Рис. 6.11. Гравировальная система Гелиоклишограф К-202 Рис. 6.12. Система изготовления печатных форм HDP: 1 - дисковые ЗУ; 2 - станция ввода информации; 3 - станция переработки информации; 4 - пробопечатное устройство; 5 - станция вывода информации с устройством долговременной памяти; 6 - гравировальная станция, включая станцию сортировки данных (спуск полос) Рис. 6.13. Формирование ячеек: а - нормальная форма; б - вытянутая; в - сжатая Рис. 6.12. Система изготовления печатных форм HDP: 1 - дисковые ЗУ; 2 - станция ввода информации; 3 - станция переработки информации; 4 - пробопечатное устройство; 5 - станция вывода информации с устройством долговременной памяти; 6 - гравировальная станция, включая станцию сортировки данных (спуск полос) Рис. 6.14. Классификация лазеров Рис. 6.15. Схематическое изображение конструкции СО2-лазера в отпаянном варианте: 1 - полностью отражающее зеркало; 2 - изолятор; 3 - сильфоны; 4 - анод; 5 - газоразрядный канал; 6 - рубашка охлаждения газоразрядного канала; 7 - резервный объем газовой смеси; 8 - жесткая арматура оптического резонатора; 9 - катод; 10 - полупрозрачное зеркало; 11 - канал, соединяющий разрядный объем с резервным Рис. 6.16. Схема твердотельного лазера с эллиптическим отражателем: 1 - лампа накачки; 2 - рефлектор; 3 - зеркало оптического резонатора; 4 - активный элемент; 5 - элемент управления лазерным излучением Рис. 6.17. Схема воздействия мощного лазерного излучения на вещество при увеличении плотности световой энергии: а - вещество плавится; б - вещество плавится и интенсивно испаряется; в - образуется плазма, преграждающая доступ излучению к поверхности вещества Рис. 6.17. Схема воздействия мощного лазерного излучения на вещество при увеличении плотности световой энергии: а - вещество плавится; б - вещество плавится и интенсивно испаряется; в - образуется плазма, преграждающая доступ излучению к поверхности вещества Рис. 6.17. Схема воздействия мощного лазерного излучения на вещество при увеличении плотности световой энергии: а - вещество плавится; б - вещество плавится и интенсивно испаряется; в - образуется плазма, преграждающая доступ излучению к поверхности вещества
Иллюстрации
(2.19)
(2.29)
(2.34)
Cпектральные кривые поглощения позитивного копировального слоя и его составных частей: 1 - копировальный слой; 2 - новолачная смола; 3 - о-нафтохинондиазид
Зависимость разрешающей способности R копировального слоя от его толщины h
Определение фотографической широты копировального слоя
Распределение освещенностей E среди группы штрихов и около одиночного штриха
Рис. 2.1. Cхема работы негативного (а) и похитивного (б) копировальных слоев на примере получения формы высокой печати (2)
Рис. 2.4. Cпектральные кривые поглощения позитивного копировального слоя и его составных частей: 1 - копировальный слой; 2 - новолачная смола; 3 - о-нафтохинондиазид
Рис. 3.1. Принципиальная схема изготовления монометаллической и полиметаллической печатных форм плоской печати: 1 - формная основа (металлическая пластина толщиной 0,3-0,5 мм); 2 - копировальный слой (2-3 мкм). Пробельный элемент - гидрофильная пленка (1-2 мкм); печатающий элемент - гидрофобная пленка (2-3 мкм) (2)
Рис. 3.1. Принципиальная схема изготовления монометаллической и полиметаллической печатных форм плоской печати: 1 - формная основа (металлическая пластина толщиной 0,3-0,5 мм); 1' - слой меди (гальванопокрытие, 6-20 мкм); 1'' - слой хрома (гальванопокрытие, 0,8-1,2 мкм); 2 - копировальный слой (2-3 мкм). Пробельный элемент - гидрофильная пленка (1-2 мкм); печатающий элемент - гидрофобная пленка (2-3 мкм)
Рис. 3.10. Кривые поглощения слоя ОНХД при экспонировании УФ-излучением: кривая 1 - в течение 0 с; 2 - 15 с; 3 - 30 с; 4 - 60 с; 5 - 120 с (2)
Рис. 3.11. Влияние температуры термообработки на химические и физические свойства слоя на углеродистой стали. Обозначения кривых: 1 - химическая стойкость к органическому растворителю; 2 - то же, к 10-процентному раствору едкого натра; 3 - износостойкость; 4 - адгезия к поверхности стали (2)
Рис. 3.2. Капля жидкости на поверхности твердого тела
Рис. 3.3. Схема поверхности алюминиевой пластины после электрохимической подготовки (по Эйлеру, ВНР): 1 - геометрическая поверхность; 2 - уровень прокатного рельефа; 3 - уровень после обезжиривания; 4 - уровень чашек после зернения; 5 - уровень оксидных пор
Рис. 3.4. Кинетика изменения емкости двойного электрического слоя стального электрода при обработке его растворами: 1 - нитрита натрия; 2 - фосфата натрия двухзамещенного; 3 - силиката натрия; 4 - ферроцианида калия; 5 - силиката натрия при 50°С; 6 - исходная поверхность
Рис. 4.10. Схема получения ФПФ из твердой фотополимеризующейся композиции: а - фотополимеризующаяся пластина (ФПП); б - схема действия УФ-излучения на ФПП; в - готовая печатная форма (ФПФ); 1 - металлическая или пластмассовая подложка ФПП; 2 - адгезионный слой; 3 - слой твердой (воздушно-сухой) фотополимеризующейся композиции; 4 - фотоформа (негатив)
Рис. 4.11. Схема получения ФПФ из жидкой фотополимеризующейся композиции (ЖПФК):а - схема экспонирования ЖПФК; б - готовая печатная форма
Рис. 4.12. Строение фотополимезирующихся пластин для изготовления печатных форм высокой и офсетной печати: 1 - защитный слой; 2 - фотополимеризуэщийся слой; 3 - промежуточный слой; 4 - адгезионный слой; 5 - противоореольный слой; 6 - металлическая подложка
Рис. 4.13. Кривые зависимости выхода гельфракции от продолжительности экспонирования в условиях газового кондиционирования (сплошные линии) и фотокондиционирования (пунктир): 1 - кондиционирование 1 ч в кислороде; 2 - 1ч в азоте; 3 - 6ч в углекислом газе; 4 - фотокондиционирование 255с при освещенности 50; 5 - без кондиционирования
Рис. 4.14. Фотоактиничность ЖФПК: а - спектральное распределение освещенности источников излучения; б - спектр прорускания силикатного стекоа толщиной 10 мм; в - спектральная чувствительность ЖФПК; г - фотоактиничность ЖПФК на основе МДФ-2; д - то же, на основе ОКМ-2; 1 - лампы ЛУФ-80; 2 - лампы ЛЭР-30
Рис. 4.15. Изолинии фотоотверждения слоев различной толщины из ЖФПК до (1,2,3) и после (1',2',3') пропускания углекислого газа: толщина слоев: 1,1' - 0,2 мм; 2,2' - 0,6 ммм; 3,3' - 0,9 мм
Рис. 4.16. Формирование профиля печатающих элементов ФПФ: а - схема расчета профиля (А-А - светящаяся поверхность, В-В - поверхность ФПК, С-С - фотоформа); б - расчетные изоэнергетические кривые формирования профиля печатающих элементов; в - экспериментальныые профили печатающих элементов ФПФ из ФПФ Целлофот (экспозиции: 1- недостаточная, 2 - оптимальная, 3 - избыточная) (3)
Рис. 4.17. Влияние продолжительности экспонирования на качество ФПФ
Рис. 5.3. Слои формного цилиндра глубокой печати: 1 - сталь; 2 - никель; 3 - основной слой меди (1,5-3 мм); 4 - разделительный слой (1 мм); 5 - тиражная рубашка (0,1 мм) (2)
Рис. 6.10. а Гравировальная установка для изготовления форм глубокой печати
Рис. 6.10. б Гравировальная система Гелиоклишограф К-201
Рис. 6.11. Гравировальная система Гелиоклишограф К-202
Рис. 6.12. Система изготовления печатных форм HDP: 1 - дисковые ЗУ; 2 - станция ввода информации; 3 - станция переработки информации; 4 - пробопечатное устройство; 5 - станция вывода информации с устройством долговременной памяти; 6 - гравировальная станция, включая станцию сортировки данных (спуск полос) (2)
Рис. 6.13. Формирование ячеек: а - нормальная форма; б - вытянутая; в - сжатая
Рис. 6.14. Классификация лазеров
Рис. 6.15. Схематическое изображение конструкции СО2-лазера в отпаянном варианте: 1 - полностью отражающее зеркало; 2 - изолятор; 3 - сильфоны; 4 - анод; 5 - газоразрядный канал; 6 - рубашка охлаждения газоразрядного канала; 7 - резервный объем газовой смеси; 8 - жесткая арматура оптического резонатора; 9 - катод; 10 - полупрозрачное зеркало; 11 - канал, соединяющий разрядный объем с резервным
Рис. 6.16. Схема твердотельного лазера с эллиптическим отражателем: 1 - лампа накачки; 2 - рефлектор; 3 - зеркало оптического резонатора; 4 - активный элемент; 5 - элемент управления лазерным излучением
Рис. 6.17. Схема воздействия мощного лазерного излучения на вещество при увеличении плотности световой энергии: а - вещество плавится; б - вещество плавится и интенсивно испаряется; в - образуется плазма, преграждающая доступ излучению к поверхности вещества (3)
Схема 2.25
Схема 2.26
Схема 2.28
Характеристические кривые негативного 1 и позитивного 2 копировальных слоев

© Центр дистанционного образования МГУП